—:等离子清洗机的机理,主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看,等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面﹔被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子﹔产物分子解析形成气相﹔反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型﹐均可进行处理,对金属﹑半导体氧化物和大多数高分子村料,如聚丙烯﹑聚脂﹑聚酰亚胺﹑聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及夏杂结构的清洗。二:等离子